Waterstofchloried (HCl)

Tegniese Parameters:

Waterstofchloried het die chemiese formule HCl. 'n Waterstofchloriedmolekule bestaan ​​uit 'n chlooratoom en 'n waterstofatoom. Dit is 'n kleurlose gas met 'n skerp reuk. 'n Korrosiewe, nie-brandbare gas reageer nie met water nie, maar is maklik oplosbaar in water. Dit is dikwels in die lug teenwoordig in die vorm van soutsuurdampe. Waterstofchloried is maklik oplosbaar in etanol en eter, en ook oplosbaar in baie ander organiese stowwe; baie maklik oplosbaar in water, by 0°C kan 1 volume water ongeveer 500 volumes waterstofchloried oplos. Die waterige oplossing daarvan staan ​​algemeen bekend as soutsuur, en die wetenskaplike naam daarvan is soutsuur. Gekonsentreerde soutsuur is vlugtig. Waterstofchloried is kleurloos, met 'n smeltpunt van -114.2°C en 'n kookpunt van -85°C. Dit brand nie in die lug nie en is termies stabiel. Dit ontbind eers teen ongeveer 1500°C. Dit het 'n verstikkende reuk, het 'n sterk irritasie van die boonste lugweë, en is korrosief vir oë, vel en slymvliese. Die digtheid is groter as lug. Die chemiese eienskappe van droë waterstofchloried is baie onaktief. Alkalimetale en aardalkalimetale kan in waterstofchloried brand, en wanneer natrium brand, gee dit 'n heldergeel vlam af. Waterstofchloried word in die petrochemiese industrie gebruik om die doeltreffendheid en regenerasie van katalisators te bevorder en die viskositeit van petroleum te verhoog; dit kan gebruik word om chlorosulfoniese suur, sintetiese rubber, ens. te produseer; dit kan ook gebruik word om kleurstowwe, geure, geneesmiddelsintese, verskeie chloriede en korrosie-inhibeerders te maak, en om metaal skoon te maak, te pekel, elektroplateer, te looi, te raffineer of harde metaal te vervaardig. Hoë suiwer waterstofchloriedgas word wyd gebruik in silikon epitaksiale groei, dampfase-polering, gettering, ets en skoonmaakprosesse in die elektroniese industrie.

Toepassing:

①Materiaal:

Meeste waterstofchloried word gebruik in die produksie van soutsuur. Dit is ook 'n belangrike reagens in ander industriële chemiese transformasies.

②Halfgeleier:

In die halfgeleierbedryf word dit gebruik om beide halfgeleierkristalle te ets en silikon via trichloorsilaan (SiHCl3) te suiwer.

③Laboratorium:

In die laboratorium is watervrye vorme van die gas veral nuttig vir die generering van chloried-gebaseerde Lewis-sure, wat absoluut droog moet wees vir hul Lewis-plekke om te funksioneer.

Normale pakket:

Voordele:

①Hoë suiwerheid, nuutste fasiliteit;

②ISO-sertifikaatvervaardiger;

③ Vinnige aflewering;

④Aanlyn-analisestelsel vir gehaltebeheer in elke stap;

⑤Hoë vereiste en noukeurige proses vir die hantering van silinder voor vulling;